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文章出处:责任编辑:作者:人气:-发表时间:2022-04-06 10:37:00【 】

 h2se;实验用,掺杂气,制备硒化物,扩散、离子注入。


h2s;化学分析,金属的精制,各种工业试剂、农药、医药品、萤光体、电发光、半导体光电曝光仪,硫及各种硫化物的制备,有机合成的还原剂、标准气、校正气、等离子干刻。

ash3,扩散、外延生长,离子注入,化合物半导体用气体,化学气相沉积。

ph3;缩合催化剂,聚合引发剂,磷的有机化合物制备,发生气体,外延生长、扩散、离子注入,蚀刻,化学气相沉积,粮仓的杀虫药。

nh3;氮肥,铵盐,硝酸,尿素,丙烯腈,药品染料,金属表面氮化,制冷剂,半导体用气体,氧化、氮化膜,化学气相沉积,标准气、校正气、在线仪表标准气。

geh4;化学试剂,制取高纯度锗,化学气相沉积,扩散、非晶硅,外延、离子注入。

si2h6;太阳能电池,非晶硅膜,外延生长,氧化膜,氮化膜,化学气相沉积。

sih4;硅的外延生长,多晶硅、氧化硅、氮化硅的原料,太阳能电池,光导纤维,有色玻璃制造,化学气相沉积。

b2h6;半导体制造中的扩散和氧化、外延生长,化学气相沉积。

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