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文章出处:责任编辑:作者:人气:-发表时间:2022-04-06 10:39:00【 】

cof2;有机合成中间体,氟化剂。


chf3;蚀刻,冷冻剂,有机合成。

ch2f2;致冷剂。

ch3f;喷雾剂,c-f键的研究。

wf6;氟化剂,钨载体,化学气相沉积。

sf6;电子设备,雷达波导,粒子加速器,变压器,避雷器的气   绝缘体,制冷剂,示踪装置,医疗,半导体制造中的蚀刻、化学气相沉积,标准气,检漏气体,色谱仪的载气。

nf3;火箭推进剂,氟化剂,电子气,等离子干刻,掺杂,激光,光导纤维 。

sif4;有机硅化合物的合成材料,水泥和人造大理石的硬化剂,氟硅酸及氟化硅的制造,硅的外延生长,等离子蚀刻,太阳能电池,复印机感光筒,非晶硅膜生长,化学气相沉积。

c3f8;高压绝缘,制冷剂,等离子干刻。

c2f6;等离子干刻,冷却,制冷和空调,化学反应中的添氟剂,电气设备的绝缘剂。

cf4;制冷,气体绝缘,干蚀刻气,氟化剂,表面处理剂,激光气体泄漏检验剂。

bf3;有机合成催化剂,火箭的高能燃料,核技术,半导体制造用掺杂气,离子注入气,光导纤维制造,烟熏剂。

hf;制备氟里昂气及其他氟化物,乙醇、乙醛、乙醚(液休hf)的溶剂,聚合、烃化反应的催化剂,玻璃雕刻,杀菌剂,清洗金属,清洗铸件,电镀,滤纸的处理,矿石类的分析,锗、硅的蚀刻剂。

f2;火箭燃料的氧化剂,分离铀同位素,金属的焊接和切割,电镀,玻璃加工,卤化氟的原料,氟化物,含氟塑料,氟橡胶的制造,药物,农药,杀虫剂,冷冻剂,等离子蚀刻。

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